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　　濺射法是制備化學(xué)成分比較復(fù)雜的合金和化合物復(fù)合薄膜的相當(dāng)有效的方法之一.但是，如果濺射條件不當(dāng)，容易發(fā)生濺射膜成分的偏離，得不到預(yù)期成分的薄膜.濺射膜化學(xué)成分的偏離，是由于在濺射過程中靶表面成分的變化以及各種成分的附著系數(shù)的不同而引起的.

　　為了避免濺射膜化學(xué)成分的偏離，以得到預(yù)期的膜，必須防止靶表面的發(fā)熱，同時(shí)要考慮各成分的附著系數(shù)的差異，預(yù)先改變靶的成分.但是，如果當(dāng)各成分蒸氣壓之差比較小，基板溫度不太高時(shí)，濺射膜成分的偏離可以忽略不計(jì).

　　在BiO2中添加一定量的GeO，SiO2和PbO等氧化物可以形成所謂的r-Bi203族化合物，它是具有壓電性和光電效應(yīng)的絕緣體.用高頻平行平板型兩電極濺射裝置。在玻璃或硅基板上制備多晶或非晶y—Bi2O3族薄膜時(shí)，所用的靶，是把Bi203物粉末按y—Bi2O3族化合物的化學(xué)當(dāng)量比混合后，在空氣中焙燒4個(gè)小時(shí)而成的。

　　表3.9給出了濺射條件，濺射膜的結(jié)構(gòu)主要與基板的溫度有關(guān).例如，Bi12GeO20薄膜，當(dāng)基板溫度低于150℃時(shí)其結(jié)構(gòu)為非晶;當(dāng)基板溫度為150~350℃時(shí)，形成亞穩(wěn)定的8相(多晶)，沒有壓電性質(zhì)：當(dāng)基板溫度高于400℃時(shí)得到7相;當(dāng)基板溫度在350～400℃時(shí)得到8相和7相的混合相。其他7-Bi2O3族薄膜的結(jié)構(gòu)也是主要和基板溫度有關(guān)，而且y相的定向性隨著添加物的種類而變化.Bi12PbO19薄膜的7相具有定向性.