特點(diǎn):適用于噴涂或網(wǎng)印生產(chǎn),涂膜表面均勻,無氣泡或針孔,干燥速度快,顯像精細(xì)度高、具有優(yōu)良的附著力、抗蝕刻性能優(yōu)異。
工藝流程:1:基材表面清洗—噴涂或網(wǎng)印—烤干或晾干—曝光—顯影—后烘--蝕刻—退膜。
技術(shù)特性:
項(xiàng)目 |
一般標(biāo)準(zhǔn) |
粘度 |
120-150(25℃,dpa.s) |
細(xì)度 |
≤5-10micro;m |
固化條件 |
膜厚10-20micro;m,800-1200mj/cm2 |
涂膜硬度 |
(三菱鉛筆,1kg力)≥3H |
附著力 |
(3M中高粘膠帶)100/100劃格法 |
成份 |
單組份 |