點(diǎn)擊圖片查看大圖日立高新磁控濺射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了電磁管電極，能夠*大限度地減輕對(duì)樣品的損壞，并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。
日立高新磁控濺射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的*大樣品直徑：60 mm
日立高新磁控濺射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的*大樣品高度：20 mm
特點(diǎn)：
采用LCD觸摸屏，可以更加簡(jiǎn)便地設(shè)定加工條件
可處理較厚或較大的樣品(選配件)
記憶功能可存儲(chǔ)常用加工條件
規(guī)格：
| 項(xiàng)目 | 說(shuō)明 | |
| 放電 | 類型 | 磁控二極管放電型（電場(chǎng)垂直于磁場(chǎng)） |
| 電極組成 | 反向平行盤（嵌入磁鐵） | |
| 電壓 | *大0.4Kv DC（直流可變） | |
| 電流 | *大40mA DC | |
噴鍍速率(*大）[條件] 壓力：7Pa 放電電流:40mA 標(biāo)靶與樣品表面之間的距離:20mm | Pt靶(選配件) | 15nm/min |
| Pt-Pd靶（選配件） | 20nm/min | |
| Au靶(選配件) | 35nm/min | |
| Au-Pd靶（選配件） | 25nm/min | |
| 樣品尺寸 | *大直徑 | Ф60mm |
| *大高度 | 20mm | |
| 機(jī)械泵 | 135/162 L/min(50/60Hz) | |
| 靶材﹡2 | Pt, Pt-Pd (8: 2), Au, Au-Pd(6: 4) | |
| 電源要求 | 單相,100VAC(±10%)15A(50/60Hz)3-針插頭線纜(3m) | |
| 尺寸 | 寬度 | 450mm |
| 長(zhǎng)度 | 391mm | |
| 高度 | 390mm | |
| 重量 | 主機(jī):約25Kg 機(jī)械泵:約28kg | |
﹡1：噴鍍速率僅供參考 ﹡2：主機(jī)內(nèi)不包括靶材。請(qǐng)從選項(xiàng)中選擇（鉑,鉑-鈀,金,金-鈀) | ||
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